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原来RTP快速退火炉是由这7个部分组成的！
更新时间：2022-07-14 点击次数：3173
RTP快速退火炉采用的微电脑控制系统，采用PID闭环控制温度，可以达到*的控温精度和温度均匀性，并且可配置真空腔体，也可根据用户工艺需求配置多路气体。目前设备可用于砷化镓、硅以及其他半导体材料，离子注入后的退火、硅化物的形成、欧姆接触制备以及快速氧化、快速氮化等方面。本设备具有快速升降温、慢速升降温、和长工作时间稳定等特点。也可用于各种半导体材料的CVD工艺的热处理。
RTP快速退火炉主要由真空腔室、加热室、进气系统、真空系统、温度控制系统、气冷系统、水冷系统等几部分组成。
1.真空腔室：真空腔室是快速退火炉的工作空间，晶圆在这里进行快速热处理。
2.加热室：加热室以多个红外灯管为加热元件，以耐高温合金为框架、高纯石英为主体。
3.进气系统：真空腔室尾部有进气孔，控制的进气量用来满足一些特殊工艺的气体需求。
4.真空系统：在真空泵和真空腔室之间装有高真空电磁阀，可以有效确保腔室真空度，同时避免气体倒灌污染腔室内的被处理工件。
5.温度控制系统：温度控制系统由温度传感器、温度控制器、电力调整器、可编程控制器、PC及各种传感器等组成。
6.气冷系统：真空腔室的冷却是通过进气系统向腔室内充入惰性气体，来加速冷却被热处理的工件，满足工艺使用要求。
7.水冷系统：水冷系统主要包括真空腔室、加热室、各部位密封圈的冷却用水。
