CVD管式炉的构成和应用范围
更新时间：2020-01-03 点击次数：8523
CVD管式炉广泛用于：真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。该系统技术成熟、质量可靠;设备操作采用全数控触摸界面，丰富的图形界面提示，使得设备的操作异常简单、方便;设备的各项技术参数更是一目了然，设备的运行状态尽在您的掌控之中。该系统是材料实验室*的理想设备之一。
采用双层壳体结构，并带有风冷系统，使得壳体表面温度小于55℃.内内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度 。真空密封系统有两个不锈钢密封法兰，zui大漏气率6 mtorr/min。采用双旋机械泵，可以过滤真空泵工作时产生的油烟，减少泵油的损耗，保护环境和人体健康，过滤的zui小微粒直径为0.3微米。极限真空度≤6x10-2 Pa or 4x10-4 torr
有四路供气系统 可以用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在移动架上，可以放在上面，气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀。它可以用于CVD系统及退火炉，用来研究气体环境对材料的影响。
应用范围
广泛适用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理. 产品特点： 高温CVD系列管式炉专门设计用于高温材料沉积之用。 硅钼棒加热、刚玉炉管炉膛, 可预抽真空,便于通入参加反应的气体,进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构。具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。
